特許
J-GLOBAL ID：200903021467085185
磁気記録媒体の製造方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-189011
公開番号（公開出願番号）：特開平8-036751
出願日： 1994年07月20日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：
【要約】【目的】 直流アーク・プラズマを用いた薄膜形成において高い反応ガス圧下での成膜を可能にし簡易な磁気記録媒体の製造方法及び装置を提供すること。【構成】 真空槽4内に出射される放電プラズマ流5を、放電プラズマ流5の流れ方向に沿って真空槽4内に延設され且つグリット電極30及び陽極15を有して該プラズマ流を比較的密に囲む反応管7内に通すとともに、該反応管7内に前記反応ガスを供給して、該反応管内7で気相反応を生ぜしめ、反応管7内の気相反応によって分解されたガス成分を、基板2の表面と放電プラズマ流5とが対峙する如く反応管7の管壁の一部に開口した成膜用開口9から基板2の表面側に飛ばす。
請求項（抜粋）：
真空槽内に形成されたシート状の放電プラズマ流に反応ガスを供給する一方で、ウェブ状の基板を前記放電プラズマ流の近傍に走行させ、前記放電プラズマ流による前記反応ガスの気相反応によって放電プラズマ流側に面した前記基板の表面に所定成分の薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、成膜処理用の真空環境を提供する真空槽内にて前記基板に対峙する位置に設けた反応ガス閉じ込め手段の中に前記放電プラズマ流を発生させるときに、ガス導入手段によって前記反応ガス閉じ込め手段内に反応ガスを供給しながら、かつ該反応ガス閉じ込め手段内の放電プラズマ流に電圧印加して該放電プラズマ流を加速しながら薄膜の形成を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 5/84
, C23C 16/26
, C23C 16/50
