特許
J-GLOBAL ID：200903021493332182
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-026213
公開番号（公開出願番号）：特開平11-233479
出願日： 1998年02月06日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：
【要約】【課題】 基板の純水洗浄後の振り切り乾燥処理時に気流の乱れによる基板表面へのミストの付着が防止された基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板保持部1は、回転部材11と基板Wを支持する複数の支持ピン14と基板Wの水平位置を規制する回転式保持ピン15とを備え、モータ3の回転軸2の上端に固定されて回転駆動される。基板保持部1の上方には遮蔽部材25が配設される。遮蔽部材25は基板Wの外径とほぼ等しい内径を有する円筒部26およびカップ4に係合する係合部28を備え、支持アーム27に支持される。支持アーム27は駆動モータ29によって揺動し、円筒部26を基板Wの上方位置とカップ4の外方の待機位置とに回動する。遮蔽部材25は乾燥処理時に基板保持部1の上方の位置に移動され、基板Wの外方側から内方側へのミストまじりの気流の移動を妨げる。
請求項（抜粋）：
基板を純水で洗浄する洗浄処理の後、基板を回転させつつ乾燥させる乾燥処理を行う基板処理装置であって、基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段を回転駆動する駆動手段と、乾燥処理時に、前記基板保持手段に保持された基板の外周部の上方を取り囲むように基板の上面に対して所定間隔を隔てて配置され、基板の外方側から内方側へ向かう気流を遮る円筒状の遮蔽部材とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304 651
, B05C 11/08
, B05D 1/40
, G03F 7/30 502
, H01L 21/027
H01L 21/304 651 B
, B05C 11/08
, B05D 1/40 A
, G03F 7/30 502
, H01L 21/30 569 C
