特許
J-GLOBAL ID:200903021498277554

磁気記録媒体、及び保護膜の成膜方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宇高 克己
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-205559
公開番号(公開出願番号):特開平10-049854
出願日: 1996年08月05日
公開日(公表日): 1998年02月20日
要約:
【要約】【課題】 保護膜の電気抵抗が小さく、走行性が良好な磁気記録媒体を提供することである。【解決手段】 支持体と磁性膜と保護膜とを有する磁気記録媒体において、前記保護膜がC含有SiO<SB>x </SB>(但し、1.3<x<1.9)膜からなる磁気記録媒体。
請求項(抜粋):
支持体と磁性膜と保護膜とを有する磁気記録媒体において、前記保護膜がC含有SiO<SB>x </SB>(但し、1.3<x<1.9)膜からなることを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (4件):
G11B 5/66 ,  C07F 7/18 ,  C30B 29/16 ,  G11B 5/72
FI (4件):
G11B 5/66 ,  C07F 7/18 A ,  C30B 29/16 ,  G11B 5/72

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