特許

J-GLOBAL ID：200903021500724920

レーザー照射による光学薄膜の製造方法

発明者： 鈴木 康之
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 西山 恵三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-102126
公開番号（公開出願番号）：特開2001-290001
出願日： 2000年04月04日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：

【要約】【課題】 薄膜の光学特性の経時変化を抑制し、低コストで良質の光学薄膜を作る。【解決手段】 光学薄膜の製造方法において、基材1の表面に光学薄膜2を形成する工程S2と、形成された光学薄膜2にレーザー3を照射する工程S3とを含む。

請求項（抜粋）：

光学薄膜の製造方法において、基材の表面に光学薄膜を形成する工程、形成された前記光学薄膜にレーザーを照射する工程を含むことを特徴とする光学薄膜の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 1/10 ,  C23C 14/58 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

C23C 14/58 C ,  G02B 1/10 Z ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (18件)：

2K009AA09 ,  2K009BB04 ,  2K009CC06 ,  2K009DD03 ,  2K009DD04 ,  2K009DD05 ,  2K009EE00 ,  4K029BA42 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD09 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  4K029GA01 ,  5F046BA04 ,  5F046CA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CB01