特許
J-GLOBAL ID:200903021506683435

金属薄膜型磁気記録媒体の製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 安田 敏雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-184774
公開番号(公開出願番号):特開平5-028484
出願日: 1991年07月24日
公開日(公表日): 1993年02月05日
要約:
【要約】【目的】 磁気記録層の成膜に際し、磁性層の結晶配向等の乱れが生じにくく、ひいては高保磁力、低ノイズの磁気記録媒体を製造する。【構成】 非磁性基板3 の上にCr下地層4 を形成し、スパッタにより一軸結晶磁気異方性を有するCo合金からなる磁性層5,7,9 とCr層6,8 とを交互に成膜して磁気記録層10を形成する磁気記録媒体の製造法において、磁性層5,7 又はCr層の成膜後に磁性層又はCr層6,8 の表面をArイオンで逆スパッタする。
請求項(抜粋):
非磁性基板の上にCr下地層を形成し、スパッタにより一軸結晶磁気異方性を有するCo合金からなる磁性層とCr層とを交互に成膜して磁気記録層を形成する磁気記録媒体の製造法において、磁性層又はCr層の成膜後に磁性層又はCr層の表面をArイオンで逆スパッタすることを特徴とする金属薄膜型磁気記録媒体の製造法。

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