特許
J-GLOBAL ID：200903021508563542
パターン検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-081453
公開番号（公開出願番号）：特開平7-287389
出願日： 1994年04月20日
公開日（公表日）： 1995年10月31日
要約：
【要約】【目的】本発明は、パターン形状の検査を効率よくかつ高速、高精度に行う。【構成】電子ビームの形状を第2アパーチャ(12)により検査パターン形状に相似した形状やその反転パターンに形成し、この電子ビームを検査試料(13)上に照射したときに、電子検出器(20)から出力される電子量データに基づいて実際のビーム照射位置の面積Mkw、Mkbを求め、このずれ面積Mkw、Mkbと設定許容欠陥面積Msとを比較してパターンぬけ欠陥、又はパターン残り欠陥の判定を行う。
請求項（抜粋）：
電子ビームを検査試料に照射したときに発生する荷電粒子を電子検出器により検出して前記検査試料に形成されたパターンを検査するパターン検査装置において、少なくとも前記パターンと相似形状やその反転パターンの複数のアパーチャが形成されたアパーチャ板と、このアパーチャ板により検査パターン形状に応じて形成された電子ビームを前記検査試料に照射したときに、前記電子検出器から出力される電子量データに基づいて実際のビーム照射位置の面積を求め、このずれ面積と設定許容欠陥面積とを比較してパターンぬけ欠陥、又はパターン残り欠陥の判定を行う判定手段と、を具備したことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, G01N 21/88
, H01L 21/027
, H01L 21/66
