特許
J-GLOBAL ID:200903021508753430
複合基板、これを用いた薄膜発光素子、およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石井 陽一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-059521
公開番号(公開出願番号):特開2001-250683
出願日: 2000年03月03日
公開日(公表日): 2001年09月14日
要約:
【要約】【課題】 高濃度でかつクラックの発生無しに、膜厚を厚く形成することができるゾル-ゲル溶液を使用することにより、表面が平滑な厚膜誘電体層をもつ基板/電極/誘電体層からなる複合基板、その製造方法、およびそれを用いたEL素子を提供する。【解決手段】 電気絶縁性を有する基板と、この基板上に厚膜法により形成され電極と絶縁体層を順次有する複合基板の製造方法であって、前記絶縁体層上に金属化合物を、溶媒としてジオール類(OH(CH2)nOH)に溶解させて作製したゾル-ゲル溶液を塗布、乾燥した後、焼成して薄膜絶縁体層を形成させる複合基板の製造方法、複合基板、EL素子とした。
請求項(抜粋):
電気絶縁性を有する基板と、この基板上に厚膜法により形成され電極と絶縁体層を順次有する複合基板の製造方法であって、前記絶縁体層上に金属化合物を、溶媒としてジオール類(OH(CH2)nOH)に溶解させて作製したゾル-ゲル溶液を塗布、乾燥した後、焼成して薄膜絶縁体層を形成させる複合基板の製造方法。
IPC (8件):
H05B 33/10
, B28B 1/30
, B28B 11/04
, C04B 35/48
, C04B 35/50
, C04B 41/87
, C04B 41/89
, H05B 33/02
FI (8件):
H05B 33/10
, B28B 1/30
, B28B 11/04
, C04B 35/48 D
, C04B 35/50
, C04B 41/87 B
, C04B 41/89 Z
, H05B 33/02
Fターム (29件):
3K007AB15
, 3K007AB18
, 3K007CA02
, 3K007CB01
, 3K007DA05
, 3K007DB02
, 3K007EA02
, 3K007EC01
, 3K007FA01
, 4G031AA09
, 4G031AA11
, 4G031AA12
, 4G031AA32
, 4G031BA09
, 4G031CA08
, 4G031GA02
, 4G031GA04
, 4G031GA06
, 4G052DA02
, 4G052DA08
, 4G052DB12
, 4G052DC06
, 4G055AA08
, 4G055AC01
, 4G055AC09
, 4G055BA35
, 4G055BA38
, 4G055BA40
, 4G055BA42
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