特許

J-GLOBAL ID：200903021513490650

光磁気記録媒体の製造方法

発明者： 川 瀬 健 夫
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-079979
公開番号（公開出願番号）：特開平5-282720
出願日： 1992年04月01日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：

【要約】【目的】 従来よりも小さな変調磁界で充分な記録が行える磁界変調法用の光磁気記録媒体を製造できるようにする。【構成】 透明基板12上に第1誘電体層14を形成し、この第1誘電体層14の表面をプラズマエッチングにより平坦化し、この平坦化された表面上に記録層16を形成する。あるいは、第1誘電体層14の表面上に、これにプラズマエッチングを施すことなく記録層16を成長させ、その成長途中で一旦成長を中止して表面をプラズマエッチングにより平坦化し、この平坦化された表面上に記録層16の残り部分をさらに成長させる。こうして完成した記録層16上に、第2誘電体層18および反射層20を順に形成する。

請求項（抜粋）：

磁界変調法により情報が記録できる記録層を有する光磁気記録媒体の製造方法において、前記記録層の下地になる下地層を形成する過程と、前記下地層の表面を平坦化する過程と、前記平坦化された表面上に前記記録層を形成する過程と、を有することを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。