特許

J-GLOBAL ID：200903021516816271

隠面処理方法

発明者： 中瀬 純子 ,  渡辺 浩已 ,  中本 貴士
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-072500
公開番号（公開出願番号）：特開2000-268191
出願日： 1999年03月17日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：

【要約】【課題】3次元グラフィックス処理において正確な隠面処理を、少ない処理量で実行可能な隠面処理方法を提供する。【解決手段】オブジェクトを構成する複数のポリゴンの頂点座標から、オブジェクトを代表するX、Y、Z座標の代表値を求め(100)、得られた各オブジェクトのX、Y、Z座標の代表値を比較することにより、各オブジェクト間の位置関係を確定してZバッファ適用領域を抽出する(102)。X、Y、Zの全3方向で座標の代表値の重なりが検出された場合にZバッファ法により隠面処理(210)を行い、検出されない場合に上書きによる隠面処理(202)を行う。【効果】Zバッファを用いる領域を必要最小限にでき、Zバッファを用いてのZ座標値比較及び更新処理を低減できる。

請求項（抜粋）：

X、Y、Zの3次元座標により表現した複数のオブジェクトの隠面処理方法であって、前記複数のオブジェクトを代表する3次元領域をそれぞれ求め、前記複数の3次元領域同士が3次元で重なりを有する場合に、その重なりに含まれる前記複数のオブジェクトの画素のZ座標値を比較して表示画像を形成することを特徴とする隠面処理方法。

Fターム (2件)：

5B080AA13 ,  5B080GA02