特許
J-GLOBAL ID：200903021527545296
アクティブマトリックス基板とその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-342786
公開番号（公開出願番号）：特開平5-224233
出願日： 1991年12月25日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：
【要約】【目的】アクティブマトリックス基板の平坦化を向上する。【構成】ガラス基板10上に広い面積で形成される画素電極3の上端を薄膜トランジスタ2の上端よりも高くする。これにより、少い領域が部分的に凹状になっているだけなので、アクティブマトリックス基板全体としては平坦性が向上する。
請求項（抜粋）：
ガラス基板上に、薄膜トランジスタと走査線および信号線と画素電極とを備え、前記画素電極を作成する領域が、少なくとも前記薄膜トランジスタ及び前記走査線および前記信号線から成る領域と同じ高さもしくはそれ以上の高さになっていることを特徴とするアクティブマトリックス基板。
引用特許：
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