特許

J-GLOBAL ID：200903021536010273

磁気ヘッド及びその製造方法

発明者： 中田 正宏 ,  的野 直人 ,  野口 仁志 ,  小林 伸二 ,  柳井 孝 ,  清水 良昭
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 丸山 敏之 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-256784
公開番号（公開出願番号）：特開平7-110912
出願日： 1993年10月14日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：

【要約】【目的】 1或いは複数の非磁性絶縁層が介在した積層構造の磁気ヘッドにおいて、非磁性絶縁層が剥離することを防止し、然も基板ウエハのソリを抑制する。【構成】 磁気ヘッドを構成する非磁性絶縁層の内、少なくとも1層は、Krを含有する二酸化シリコン膜から形成されている。該二酸化シリコン膜の製造工程にはRFスパッタ装置を採用し、真空槽1内にKrを含むスパッタガスGを導入して、二酸化シリコンのターゲット13からスパッタリングを行なう。

請求項（抜粋）：

1或いは複数の非磁性絶縁層が介在した積層構造の磁気ヘッドにおいて、前記非磁性絶縁層の内、少なくとも1層は、Krを含有する二酸化シリコン膜から形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。

IPC (4件)：

G11B 5/127 ,  G11B 5/147 ,  G11B 5/31 ,  G11B 5/39