特許

J-GLOBAL ID：200903021549757157

光導波路の製造方法

発明者： 花田 忠彦
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-322652
公開番号（公開出願番号）：特開平8-179144
出願日： 1994年12月26日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：

【要約】【目的】コアの形状を変化させず、また850度より高い温度となる工程を用いずにコアの近接した領域を埋め込むことができ、さらに導波路特性の偏光依存性の小さい光導波路の製造を可能とする。【構成】基板1にコア3bの材料よりもリフロー温度の高い第1上層クラッド層4を第2上層クラッド層5との間に形成することにより、コア3b及び第2上層クラッド層5に含まれている不純物の拡散を抑制させつつリフロー温度の低い第2上層クラッド層をリフローさせて断面形状を順テーパ状にすることができる。この製造方法を用いる事により、導波路のコアが近接した領域における上層クラッド層の埋め込みが良好であり、複屈折性が小さいデバイスを低温のプロセスを用いて製造できる。

請求項（抜粋）：

基板上に形成されたストライプ状のコアがクラッドにより埋め込まれた光導波路の製造方法において、基板上に第1下層クラッド層及び前記第1下層クラッド層よりもリフロー温度の低い材料によりなるコア層を形成し、該コア層をエッチングしてストライプ状のコアを形成した後、前記コアをなす材料のリフロー温度よりもリフロー温度の高い材料で前記コアを被う層である第1上層クラッド層を形成し、次に前記第1上層クラッド層の上に前記第1上層クラッド層の材料よりもリフロー温度の低い第2上層クロッド層を形成し、さらに前記基板を前記第2クラッド層のリフロー温度よりも高い温度に保った後に前記第2上層クラッド層の上に第3上層クラッド層を形成することを特徴とする光導波路の製造方法。