特許
J-GLOBAL ID：200903021550410985
放電容器及びその放電容器を備えたプラズマラジカル生成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-207851
公開番号（公開出願番号）：特開2001-035692
出願日： 1999年07月22日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：
【要約】【課題】 ラジカルを放電プラズマの状態から高効率に得るプラズマラジカル生成装置を提供すること。【解決手段】 高周波放電によってラジカルを生成する放電容器31を備えたプラズマラジカル生成装置において、前記放電容器31が、原料ガスの入り口付近に位置し前記原料ガスに高周波の電力が供給されるカソード部6と、前記カソード部の次段に位置し前記カソード部よりも小さい断面積を有するジェット部5と、前記ジェット部の次段に位置し前記ジェット部よりも大きい断面積を有するアノード部7とを備えた。
請求項（抜粋）：
高周波放電によってラジカルを生成する放電容器を備えたプラズマラジカル生成装置において、前記放電容器が、原料ガスの入り口付近に位置し前記原料ガスに高周波の電力が供給されるカソード部と、前記カソード部の次段に位置し前記カソード部よりも小さい断面積を有するジェット部と、前記ジェット部の次段に位置し前記ジェット部よりも大きい断面積を有するアノード部とを備えたことを特徴とするプラズマラジカル生成装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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