特許
J-GLOBAL ID:200903021561275745
放射性物質付着表面の除染方法及び装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志賀 正武 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-177041
公開番号(公開出願番号):特開平5-087983
出願日: 1991年07月17日
公開日(公表日): 1993年04月09日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 放射性物質付着表面の除染方法及び装置に係るもので、除染用洗浄水の使用を省略し、放射性物質の拡散防止と使用材の再利用とを図る。【構成】放射性物質付着表面に対して、ゼオライト粒子2と加圧空気との混合流体を吹き付けて放射性物質を研削し、研削した放射性物質をゼオライト粒子2に付着させながら回収し、回収したゼオライト粒子2を放射性物質の吸着材として再利用する。
請求項(抜粋):
放射性物質付着表面に対して、ゼオライト粒子と加圧空気との混合流体を吹き付けて放射性物質を研削し、該研削した放射性物質をゼオライト粒子に付着させるとともにゼオライト粒子を回収することを特徴とする放射性物質付着表面の除染方法。
前のページに戻る