特許

J-GLOBAL ID：200903021572631314

レジスト組成物

発明者： 山口 訓史 ,  橋本 和彦 ,  戸石 好治
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-104982
公開番号（公開出願番号）：特開2003-295443
出願日： 2002年04月08日
公開日（公表日）： 2003年10月15日
要約：

【要約】【課題】170nm以下の波長の光に対する透過率に優れ、特にF2エキシマレーザーリソグラフィに適したレジスト組成物を提供する。【解決手段】樹脂及び酸発生剤を含有し、該樹脂が、放射線照射後の酸発生剤の作用により化学変化を起こしてアルカリ可溶性となるものであって、下式(I’)で示される重合単位と下式(I)で示される重合単位とを含む樹脂であるレジスト組成物。(式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に、少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数1〜12のフルオロアルキル基を表し、R5は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜3のアルキル基、又は少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数1〜12のフルオロアルキル基を表す。)(式中、R1、R2、R3、R4は、前記と同じ意味である。Ra、Rbは、それぞれ独立に酸により解裂する基または水素原子を表す。ただし、Ra、Rbの少なくとも一方は、酸により解裂する基を表す。)

請求項（抜粋）：

樹脂及び酸発生剤を含有し、該樹脂が、放射線照射後の酸発生剤の作用により化学変化を起こしてアルカリ可溶性となるものであって、下式(I’)で示される重合単位を含むことを特徴とするレジスト組成物。(式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に、少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数1〜12のフルオロアルキル基を表し、R5は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜3のアルキル基、又は少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数1〜12のフルオロアルキル基を表す。)

IPC (7件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F220/42 ,  C08F232/08 ,  C08F236/20 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F220/42 ,  C08F232/08 ,  C08F236/20 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (40件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AB10P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AL29Q ,  4J100AM02Q ,  4J100AM02R ,  4J100AR11S ,  4J100AS13T ,  4J100BA02P ,  4J100BA02S ,  4J100BA02T ,  4J100BA03P ,  4J100BB07T ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18S ,  4J100BB18T ,  4J100BC09Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38