特許
J-GLOBAL ID：200903021575166191
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-028372
公開番号（公開出願番号）：特開平5-304076
出願日： 1993年02月18日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：
【要約】【目的】 縦方向パターンと横方向パターンとでその転写像の線幅をほぼ等しくする。【構成】 照明光学系中のレチクルRのパターン面に対するフーリエ変換面、もしくはその近傍に複数の光源像Liを形成するフライアイレンズ7の射出面近傍に、フーリエ変換面を通過する照明光を照明光学系の光軸AXを中心とした輪帯状領域に制限するとともに、この輪帯状領域内で縦方向パターン14aの解像度に寄与する光源像と横方向パターン14bの解像度に寄与する光源像とを同数にするように、複数の光源像を部分的に遮光、又は減光する輪帯絞り30を配置する。
請求項（抜粋）：
光源からの照明光をほぼ均一な強度分布に成形して、互いに直交する方向に延びた第1パターンと第2パターンとを有するマスクに照射する照明光学系と、前記マスクのパターンの像を感光基板に結像投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記照明光学系中の前記マスクのパターン面に対するフーリエ変換面、もしくはその近傍面に複数の光源像を形成するフライアイ型インテグレータと;前記フーリエ変換面を通過する前記照明光を前記照明光学系の光軸を中心とした輪帯領域に制限するとともに、該輪帯領域内で前記第1パターンの解像度に寄与する光源像と前記第2パターンの解像度に寄与する光源像とを同数にするように、前記複数の光源像を部分的に遮光、又は減光する絞り部材とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 311 S
