特許

J-GLOBAL ID：200903021576570905

成膜方法および成膜装置

発明者： 小原 隆 ,  山崎 六月 ,  工藤 由紀
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-068787
公開番号（公開出願番号）：特開平9-256144
出願日： 1996年03月25日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：

【要約】【課題】 ターゲットの組成とほぼ同じ組成を有する薄膜を長時間安定して形成することが可能な成膜方法を提供しようとするものである。【解決手段】 基板と対向配置された蒸気圧または融点の異なる2種以上の元素からなるターゲットに所定のパルス幅で発振する集光された矩形状のレーザ光を前記ターゲットに対して所定の仰角から一定周期で照射して蒸発させ、前記蒸発物質を基板に付着させて成膜する工程と、前記成膜中に前記レーザ光の照射を停止する工程と、前記レーザ光照射の停止時に前記ターゲットを移動させる工程とを具備したことを特徴としている。

請求項（抜粋）：

基板と対向配置された蒸気圧または融点の異なる2種以上の元素からなるターゲットに所定のパルス幅で発振する集光された矩形状のレーザ光を前記ターゲットに対して所定の仰角から一定周期で照射して蒸発させ、前記蒸発物質を基板に付着させて成膜する工程と、前記成膜中に前記レーザ光の照射を停止する工程と、前記レーザ光照射の停止時に前記ターゲットを移動させる工程とを具備したことを特徴とする成膜方法。