特許

J-GLOBAL ID：200903021581639530

脱気装置

発明者： 斎藤 利徳
出願人/特許権者： モーレ株式会社
代理人 (1件)： 小野寺 洋二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-084376
公開番号（公開出願番号）：特開2000-275229
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：

【要約】【課題】高範囲の流速と高効率かつ小型化可能な脱気装置を提供する。【解決手段】気体透過性の偏平チューブ201を中間真空空間401を周回させて構成した脱気モジュールと、この偏平チューブを収納する真空チャンバーとから構成し、脱気モジュールを構成する偏平チューブ201に溶液を流通させることにより、当該溶液中に溶存する気体成分を偏平チューブ201から上記中間真空空間401および外部真空空間402、403を収容する真空チャンバーに透過させて除去する。

請求項（抜粋）：

貯留容器から送液ポンプにより溶液を吸入し、吸入した溶液に溶存する気体を除去した後、サンプル注入バルブを介して分離カラムを含む検出手段に送液するために、前記貯留容器と前記送液ポンプの間に設置する高速液体クロマトグラフィー用の脱気装置であって、前記脱気装置を、気体透過性の偏平チューブから構成した脱気モジュールと、この偏平チューブを収容する真空チャンバーとから構成し、前記脱気モジュールを構成する偏平チューブに前記溶液を流通させることにより、当該溶液中に溶存する気体成分を前記偏平チューブから前記真空チャンバーに透過させて除去することを特徴とする脱気装置。