投影光学系の調整方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-141914
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349702
出願日： 1993年06月14日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：

【要約】【目的】スリットスキャン露光方式の投影露光装置で露光を行った後の、投影光学系による像の歪曲収差を小さくする。【構成】テストレチクル上に2次元格子状に配列された計測用マーク27(i,j) の像を、調整対象とする投影光学系を介して感光基板上に投影し、現像後のレジストパターンよりなる格子パターン像29Aを理想格子28と比較して歪みベクトルを求める。スリット状の露光領域31を所定角度ずつ回転し、回転後の露光領域31内で長手方向に所定間隔で並んだ直線33A,33B,...上で、それぞれ走査方向の歪みベクトルの平均値を求める。歪みベクトルの平均値が全体として最も小さくなるときの回転角に基づいて、投影光学系のレンズエレメント群を回転させる。

請求項（抜粋）：

複数のレンズエレメントよりなり所定形状の照明領域内のマスクのパターンの像を感光性の基板上に投影する投影光学系を有し、前記照明領域に対して前記マスクを所定方向に走査し、前記照明領域と共役な所定形状の露光領域に対して前記基板を所定方向に走査することにより、前記マスクのパターンの像を逐次前記基板上に露光する投影露光装置の前記投影光学系の結像特性の調整方法であって、前記投影光学系の結像面上の2次元の格子点での像の変形量を計測する第1工程と、前記所定形状の露光領域及び前記2次元の格子点を前記投影光学系の光軸を中心に相対的に順次所定角度間隔で回転した後の、前記回転後の2次元の格子点での像の変形量を前記第1工程で計測された変形量から算出し、前記回転後の所定形状の露光領域内の前記回転後の2次元の格子点での像の変形量を前記回転後の格子軸に沿った方向に積算し、前記基板を前記回転後の露光領域に対して走査した後の前記投影光学系による像の変形量を予測する第2工程と、前記積算された格子点の像の分布を求める第3工程と、前記第2工程及び第3工程で求められた前記基板の走査後の前記基板上での像の変形量及び分布が最良になるときの前記所定形状の露光領域の回転角を求める第4工程と、該第4工程で求められた回転角に基づいて、前記投影光学系を構成する前記複数のレンズエレメント内の所定のレンズエレメントの前記投影露光装置に対する回転角を調整する第5工程と、を有することを特徴とする投影光学系の調整方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03F 7/20 521

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平4-196513
特開平4-277612
特開平2-051214

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審査官引用 (4件)

特開平4-196513
特開平4-277612
特開平2-051214

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