特許

J-GLOBAL ID：200903021598168604

表示装置とその製造方法

発明者： 金子 寿輝 ,  園田 大介
出願人/特許権者： 株式会社 日立ディスプレイズ
代理人 (1件)： 小野寺 洋二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-349688
公開番号（公開出願番号）：特開2007-156019
出願日： 2005年12月02日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：

【課題】反射電極を形成する下地膜の表面に滑らかな凹凸を透過率の低下無く形成することで、高反射効率と高透過率を備えた半透過反射型の表示装置を得る。【解決手段】第1の基板である薄膜トランジスタ基板SUB1の主面に設ける層間絶縁層INSに塗布型無機絶縁膜材料を用い、この塗布膜にホト工程で形成した角のある凹凸表面をリフローさせることにより、滑らかな表面凹凸BUPを得、この上に反射電極RTを成膜して内面拡散板を得る。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

主面に形成された各画素又はその一部に反射膜を有する第1の基板と、所定の間隙をもって前記第1の基板と貼り合わせた第2の基板とを有する表示装置であって、 前記反射膜は、平坦な下地の上に成膜された無機絶縁膜の表面をリフローさせることにより形成された滑らかな凹凸面上に形成されていることを特徴とする表示装置。

IPC (5件)：

G09F 9/30 ,  G02F 1/167 ,  G02F 1/133 ,  G02F 1/134 ,  G02F 1/136

FI (6件)：

G09F9/30 349D ,  G02F1/167 ,  G02F1/1335 520 ,  G02F1/1343 ,  G02F1/1368 ,  G09F9/30 349A

Fターム (35件)：

2H091FA02Y ,  2H091FA16Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB08 ,  2H091FD04 ,  2H091FD23 ,  2H091FD24 ,  2H091HA06 ,  2H091HA09 ,  2H091LA12 ,  2H091LA15 ,  2H091LA16 ,  2H092GA13 ,  2H092GA17 ,  2H092HA03 ,  2H092HA05 ,  2H092JA24 ,  2H092MA10 ,  2H092MA13 ,  2H092NA01 ,  2H092NA27 ,  2H092PA08 ,  2H092PA12 ,  2H092QA06 ,  2H092QA09 ,  5C094AA06 ,  5C094AA08 ,  5C094AA10 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094ED03 ,  5C094ED11 ,  5C094GB10

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-142134   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 液晶表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-005577   出願人：株式会社日立製作所