特許
J-GLOBAL ID：200903021600202939
スパッタリング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-130901
公開番号（公開出願番号）：特開平5-320890
出願日： 1992年05月22日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：
【要約】【目的】スパッタリング装置に関し、ホルダーに複数枚搭載した非磁性基板への、スパッタリング技術による磁性被膜の被膜形成時における温度条件が、ホルダーに複数枚搭載された各非磁性基板の全てでほぼ同じになるように加熱されるヒーターを、インライン通過型のスパッタリング装置に備えることによって、保磁力がほぼ一定となった磁気記録媒体を製造することである。【構成】非磁性基板上にスパッタリング技術を用いて、下地膜、磁性膜、保護膜の全部または一部を被膜形成して磁気記録媒体を製作するインライン通過型のスパッタリング装置において、インライン通過路に沿って配設した前記非磁性基板を加熱するためのヒーターを複数に分割するとともに、この複数に分割した各ヒーターの温度を個々に設定可能にしたスパッタリング装置。
請求項（抜粋）：
非磁性基板上にスパッタリング技術を用いて、下地膜、磁性膜、保護膜の全部または一部を被膜形成して磁気記録媒体を製作するインライン通過型のスパッタリング装置において、インライン通過路に沿って配設した前記非磁性基板を加熱するためのヒーターを複数に分割するとともに、この複数に分割した各ヒーターの温度を個々に設定可能にしたことを特徴とするスパッタリング装置。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, C23C 14/54
, C23C 14/56
