特許
J-GLOBAL ID:200903021605154967

短パルス硬X線発生装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-333641
公開番号(公開出願番号):特開2001-155897
出願日: 1999年11月25日
公開日(公表日): 2001年06月08日
要約:
【要約】【課題】 輝度の高いパルスX線を必要とするラジオグラフィー、医療診断、X線傾向分析、材料表面改質技術及び高速現象をとらえる必要のある非破壊検査、透過画像計測等のX線応用の産業技術、医療診断技術分野等で利用できる、パルスX線発生装置【解決手段】 真空容器内の高電圧が印加される電極間の一方の電極に時間幅の短いパルスレーザー光を照射して光電効果による光電子を陰極上に短時間に発生させ、これを陽極に衝突させて短パルスのX線を発生させることを可能とするパルスX線発生装置。
請求項(抜粋):
真空容器内の高電圧が印加される電極間の一方の電極に時間幅の短いパルスレーザー光を照射して光電効果による光電子を陰極上に短時間に発生させ、これを陽極に衝突させて短パルスのX線を発生させることを可能とするパルスX線発生装置。
IPC (3件):
H05G 2/00 ,  G21K 1/00 ,  H05H 1/24
FI (4件):
G21K 1/00 X ,  H05H 1/24 ,  H05G 1/00 J ,  H05G 1/00 K
Fターム (5件):
4C092AA06 ,  4C092AA17 ,  4C092AB11 ,  4C092AB21 ,  4C092AB27

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