特許

J-GLOBAL ID：200903021612160930

ガスハイドレートの生成方法および生成装置

発明者： 園田 隆 ,  山本 圭介
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 藤田 考晴 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-225987
公開番号（公開出願番号）：特開2003-041272
出願日： 2001年07月26日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：

【要約】【課題】 生成されたガスハイドレートを、生成工程を中断することなく払い出し可能として生産性の向上を図る。【解決手段】 反応容器1内部で原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレートの生成方法において、反応容器1にガスハイドレートの取出口である開口5aを設けておき、反応容器1内部に形成される水相Lの液面を開口5aより低位に設定して生成を行い、該生成を継続させながら、水相Lの液面にガスハイドレートが溜まったら液面を上昇させ、水相Lに浮かぶガスハイドレートを開口5aを通じて払い出す。

請求項（抜粋）：

反応容器の内部で原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレートの生成方法において、前記反応容器に前記ガスハイドレートの取出口を設けておき、前記反応容器内部に形成される水相の液面を前記取出口より低位に設定して生成を行い、前記水相の液面に前記ガスハイドレートが溜まったら、前記生成を継続させながら前記液面を上昇させ、前記水相に浮かぶガスハイドレートを前記取出口を通じて払い出すことを特徴とするガスハイドレートの生成方法。

IPC (7件)：

C10L 3/06 ,  C07B 61/00 ,  C07B 63/02 ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04 ,  F17C 11/00

FI (7件)：

C07B 61/00 C ,  C07B 63/02 B ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04 ,  F17C 11/00 B ,  C10L 3/00 A

Fターム (9件)：

3E072EA10 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC90 ,  4H006AD16 ,  4H006BD21 ,  4H006BD33 ,  4H006BD52 ,  4H006BE60