マスクの検査方法およびその検査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-216285
公開番号（公開出願番号）：特開平10-062964
出願日： 1996年08月16日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】単面付けマスクの欠陥検査の検査時間を短縮する。【解決手段】基準マスク1b上に基準パターン22を作成し、これと同じパターンデータを使用した作成マスク1aの共通パターン部21は、基準マスク1bと作成マスク1aとのマスク上のパターンどうしの比較検査を行う。

請求項（抜粋）：

半導体装置を製造する際に用いるマスクの検査方法において、基準パターン部を有する基準マスクを作成し、作成マスクの共通パターン部は基準マスクの基準パターン部と同一のパターンデータで作成し、基準パターン部および共通パターン部から個別パターン部と重なる領域を除外した領域の位置データを出力し、作成マスク上のパターン形成は基準マスクと同一のパターン形成工程で行い、作成マスクのこの領域の欠陥検査は基準マスクとのパターンどうしの比較検査で行い、これ以外の領域の欠陥検査は作成マスク上のパターンをマスク設計データとの間の比較検査で行うことを特徴とするマスクの検査方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027 , H01L 21/66

FI (3件)：

G03F 1/08 S , H01L 21/66 J , H01L 21/30 502 V

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