特許
J-GLOBAL ID：200903021635810796
ダイヤモンド膜の被覆方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青木 朗 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-063913
公開番号（公開出願番号）：特開平6-056585
出願日： 1992年03月19日
公開日（公表日）： 1994年03月01日
要約：
【要約】【目的】 基板へのダイヤモンド膜の被覆方法に関し、基板上へ密着力の高いダイヤモンド被覆を適用する方法を実用化することを目的とする。【構成】 ダイヤモンド膜を成長させる基板上に空隙率が5〜30%の溶射膜を中間層とするか、更にこの溶射膜に傷付け処理を行うか、或いは溶射膜を多層構造をとって形成し、この中間層上にダイヤモンド膜を気相成長させることによりダイヤモンド膜の被覆方法を構成する。
請求項（抜粋）：
ダイヤモンド膜を成長させる被処理基板上に空隙率が5〜30%の溶射膜を中間層として形成し、該中間層上にダイヤモンド膜を気相成長させることを特徴とするダイヤモンド膜の被覆方法。
引用特許：
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