特許
J-GLOBAL ID：200903021638867446
有機EL素子および有機EL素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
谷 義一
, 阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-034261
公開番号（公開出願番号）：特開2004-247106
出願日： 2003年02月12日
公開日（公表日）： 2004年09月02日
要約：
【課題】高い平坦性と高い光反射率とを有する下部電極を備えたトップエミッション型の有機EL素子およびその製造方法を提供すること。【解決手段】透明基板301上に屈折率nrのアモルファス金属反射層302を設けて平坦性を担保する一方、この反射層上に屈折率が異なる複数の透明電極層を積層させた多層透明電極303を設けることとした。この多層透明電極303を、少なくとも屈折率n1の第1の透明電極層と屈折率n2の第2の透明電極層とを順次積層して構成することとし、これらの屈折率をnr>n2>n1の関係を有するように設定するとともに、第1の透明電極層の厚みd1と第2の透明電極層の厚みd2を下式を満足するように設定した。n1d1=mλ/2(m=1,2,3...)n2d2=nλ/4(n=1,2,3...)【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基板上に設けられた反射層と、当該反射層上に設けられた第1の透明電極と、当該第1の透明電極に対向して配置された第2の透明電極と、前記第1および第2の透明電極の間に設けられた発光波長λの有機EL発光層とを備え、
前記第1の透明電極は、屈折率が異なる複数の透明電極層を積層させたものであることを特徴とする有機EL素子。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05B33/26 Z
, H05B33/14 A
3K007AB03
, 3K007CC01
, 3K007DB03
, 3K007FA01
