特許

J-GLOBAL ID：200903021656126852

新規なレジスト材料

発明者： 浦野 文良 ,  大野 桂二 ,  藤江 啓利
出願人/特許権者： 和光純薬工業株式会社 ,  松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 平井 順二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-353490
公開番号（公開出願番号）：特開平8-211612
出願日： 1992年12月14日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、遠紫外光、KrFエキシマレーザ光等に対し高い透過性を有し、これ等光源による露光や電子線、X線照射に対して高い感度を有し、耐熱性及び基板との密着性が極めて優れ、又、化学増幅作用が十分行なわれ、パターン寸法が経時変化せず、良好なパターン形状が得られる重合体を使用したポジ型のフォトレジスト材料を提供する事を目的とする。【構成】 フェノール性水酸基を有する樹脂にイソプロペニルアルキルエーテル、2-アルコキシ-1-ブテン、イソプロペニルトリメチルシリルエーテル又はイソプロペニルベンジルエーテルを反応させて得たアルカリ難溶性樹脂と露光によりカルボン酸を発生する感光性化合物と、これ等を溶解可能な溶剤を含んで成る事を特徴とするフォトレジスト材料。

請求項（抜粋）：

フェノール性水酸基を有する樹脂にイソプロペニルアルキルエーテル、2-アルコキシ-1-ブテン、イソプロペニルトリメチルシリルエーテル又はイソプロペニルベンジルエーテルを反応させて得たアルカリ難溶性樹脂と露光によりカルボン酸を発生する感光性化合物と、これ等を溶解可能な溶剤を含んで成る事を特徴とするフォトレジスト材料。

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027