特許
J-GLOBAL ID：200903021662693840
サンプル上にガス経路によりナノメトールパターンを生成し光学分析する装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-352311
公開番号（公開出願番号）：特開平6-011441
出願日： 1992年12月11日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：
【要約】【目的】 輻射補助によるエッチングと付着に対する波長制約を除去し励起ビームの分解能と波長の関連性を断つこと。【構成】 本発明のホトナノグラフは、パターン生成用ガス供給手段を備え、第1端にガス排出用ミクロ毛細管を備えたガス膨脹室と、第一端が鈍化し被処理サンプルに面して配置された一本の光ファイバーと、同光ファイバーの第2端に接続され同第2端がそれが発した光を透過させるようになった光源と、サンプルにより反射された光信号を検出処理する手段と、を備える。本装置によりマイクロエレクトロニクスとマイクロオプトエレクトロニクス用の材料を局部エッチング又は付着させることができる。
請求項（抜粋）：
サンプル上にガス経路によりナノメトールパターンを生成し光学分析する装置において、パターン生成用の第1ガス供給手段を備え第1端にガス排出用のミクロ毛細管を有する密封ガス膨脹室と、第1端が鈍化し被処理サンプルに面して配置される一本の光ファイバーと、入射ビームを発する光ファイバーの第2端に接続される光源で前記光ファイバーの第2端が光源により発せられるビームを搬送できるようになったものと、サンプルにより反射された光信号を検出・処理する手段を備える前記装置。
IPC (6件)：
G01N 21/27
, C23F 4/02
, H01L 21/205
, H01L 21/268
, H01L 21/302
, H01S 3/00
