特許

J-GLOBAL ID：200903021664584240

マーク位置検出装置およびこれを用いたマーク位置検出方法

発明者： 上原 靖弘
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 篠原 泰司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-271822
公開番号（公開出願番号）：特開2000-097633
出願日： 1998年09月25日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】 光学系のノイズや照明の強度ムラの影響を受けないマーク位置検出装置およびこれを用いた検出方法を提供する。【解決手段】 本発明は、可干渉性光束を発生させる光源1と、前記可干渉性光束を参照光束と測定用光束とに分割しかつ前記参照光束の戻り光と前記測定光束の戻り光を合成するハーフミラー3と、前記測定用光束を基板5に形成された位置検出用マーク6に導く対物レンズ4と、基板5を載置するZステージ13と、Zステージ13に接続されたZステージ制御装置17と、ハーフミラーにより合成された光束を撮像するCCDカメラ11と、CCDカメラ11により得られた干渉像を演算するための演算手段12とを含むマーク位置検出装置により実現できる。

請求項（抜粋）：

可干渉性光束を発生させる手段と、前記可干渉性光束を参照光束と測定用光束とに分割する光束分割手段と、前記測定用光束を観察物体に形成された位置検出用マークへ導く対物光学系と、前記測定用光束と前記参照光束とを合成する光束合成手段と、該光束合成手段により合成された光束を撮像する手段と、を有する干渉測定装置と、該干渉測定装置で得られた干渉測定結果を演算処理して前記位置検出用マークの位相像を形成する手段を有する干渉測定結果解析装置と、前記位相像から前記位置検出用マークの位置を決定する演算手段を有する位相像演算装置と、を備えたことを特徴とするマーク位置検出装置。

IPC (3件)：

G01B 11/00 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G01B 11/00 G ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 P

Fターム (27件)：

2F065AA03 ,  2F065BB27 ,  2F065FF04 ,  2F065FF52 ,  2F065GG05 ,  2F065GG06 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL46 ,  2F065PP12 ,  2F065PP22 ,  2F065PP24 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ42 ,  5F046EA12 ,  5F046EB01 ,  5F046FA05 ,  5F046FA10 ,  5F046FB08 ,  5F046FB10 ,  5F046FB12 ,  5F046FB13 ,  5F046FB19 ,  5F046FC04