特許
J-GLOBAL ID:200903021665426664

ファインセラミックス加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-318792
公開番号(公開出願番号):特開平9-155851
出願日: 1995年12月07日
公開日(公表日): 1997年06月17日
要約:
【要約】【課題】 スループットを向上させた、加工溝幅を容易に制御できるファインセラミックス加工装置を提供する。【解決手段】 TEA-CO2 レーザからはビーム形状12mm×12mmの正方形のレーザ光が出射される。このレーザ光は、ミラー14、15によりビームエキスパンド12に入射する。ビームエキスパンドは、ビーム形状12mm×24mmにレーザ光をビーム成形する。ビーム成形されたレーザ光は、ミラー16を介してシリンドリカルレンズ13に入射する。シリンドリカルレンズは入射したレーザ光を一軸に関して集光し、12mm×0.1mmのスポット光として、加工テーブル18上の被加工材17に照射する。
請求項(抜粋):
レーザ発振器からのレーザ光をファインセラミックスに照射してスクライビングを行うファインセラミックス加工装置において、前記レーザ光のビーム形状が長方形になるように光学的に成形を行う光学的成形手段を設けたことを特徴とするファインセラミックス加工装置。
IPC (6件):
B28D 1/00 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  G02B 27/09 ,  G02B 27/00 ,  H01S 3/22
FI (6件):
B28D 1/00 ,  B23K 26/00 D ,  B23K 26/06 E ,  G02B 27/00 E ,  G02B 27/00 Q ,  H01S 3/22 Z

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