特許

J-GLOBAL ID：200903021681492316

光学活性3,4-デヒドロプロリンの製法

発明者： 大黒 一美 ,  井上 健二
出願人/特許権者： 鐘淵化学工業株式会社
代理人 (1件)： 安富 康男 (外2名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999006978
公開番号（公開出願番号）：WO2000-035870
出願日： 1999年12月13日
公開日（公表日）： 2000年06月22日
要約：

【要約】工業的規模において生産性が高い(S)-3,4-デヒドロプロリン誘導体の製造法を提供する。(2S,4R)-4-スルホニルオキシプロリン化合物を3級アルコキシド金属塩、あるいはアルカリ金属水酸化物で処理することにより(S)-3,4-デヒドロプロリン誘導体を工業的に実施可能で有利に製造する方法を提供する。

請求項（抜粋）：

下記式(1);(式中、R1はアミノ基の保護基を表し、R2はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表わす。)で表される4-スルホニルオキシプロリン化合物を下記式(2);(式中、R3、R4、R5は同一若しくは異なっても良いアルキル基又はアラルキル基を表し、Mは金属原子を表わす。)で表される3級アルコキシド金属塩、またはアルカリ金属水酸化物で処理することを特徴とする、下記式(3);で表される3,4-デヒドロプロリン化合物の製造法。

IPC (2件)：

C07D207/22 ,  B01J 31/02 101

FI (2件)：

C07D207/22 ,  B01J 31/02 101 X