特許
J-GLOBAL ID：200903021687415240

洗浄剤組成物

発明者：
高野 留美

高野 留美 について


出願人/特許権者：
ジョンソン株式会社

ジョンソン株式会社 について


代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-197328
公開番号（公開出願番号）：特開2004-035816
出願日： 2002年07月05日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】洗浄性、スチレン系樹脂等のプラスチック基材に対する基材損傷抑制、洗浄後の被洗浄面の仕上がり性に優れると共に、皮膚刺激性が少なく、広範囲な被洗浄物に対して適用可能な洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】(A)テルペン系炭化水素、(B)スルホコハク酸塩、並びに、(C)揮発性若しくは液状アミン化合物、及び/又は、金属イオン封鎖剤を含有することを特徴とする洗浄剤組成物である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)テルペン系炭化水素、(B)スルホコハク酸塩、並びに、(C)揮発性若しくは液状アミン化合物、及び/又は、金属イオン封鎖剤、を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。
IPC (4件)：
C11D10/02 ,  C11D1/28 ,  C11D3/18 ,  C11D3/30
FI (4件)：
C11D10/02 ,  C11D1/28 ,  C11D3/18 ,  C11D3/30
Fターム (15件)：
4H003AB22 ,  4H003AB23 ,  4H003AB31 ,  4H003DA05 ,  4H003DA08 ,  4H003DA12 ,  4H003EB04 ,  4H003EB14 ,  4H003EB16 ,  4H003EB20 ,  4H003ED02 ,  4H003ED03 ,  4H003FA02 ,  4H003FA21 ,  4H003FA28
引用特許：
審査官引用 (8件)
  • 洗浄剤組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-082082   出願人：花王株式会社
  • 特開昭62-096600
  • 特開昭61-012798
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