特許

J-GLOBAL ID：200903021690883395

酸化物薄膜作製装置

発明者： 藤野 修一 ,  小田川 明弘 ,  榎本 陽一
出願人/特許権者： 財団法人国際超電導産業技術研究センター ,  三菱マテリアル株式会社 ,  松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-038973
公開番号（公開出願番号）：特開平6-248440
出願日： 1993年02月26日
公開日（公表日）： 1994年09月06日
要約：

【要約】【目的】簡単な構造で、基板表面を清浄表面に維持し、もって高品質膜を得ることができる酸化物薄膜形成装置を提供する。【構成】酸化物薄膜形成装置は、酸化物材料のターゲット14及びこのターゲットの酸化物材料を蒸着する基板16とを配置した真空槽12と、レーザ光源10と、光空間変調器20,22,24と備え、光空間変調器20,22,24によりレーザ光源10からのレーザ光をまず基板16に照射して基板16表面を清浄化し、ついでターゲット12の表面に照射して、基板表面に酸化物を蒸着、堆積させる。

請求項（抜粋）：

酸化物材料のターゲット及びこのターゲットの酸化物材料を蒸着する基板とを配置した真空槽と、レーザ光発生手段と、このレーザ光発生手段からのレーザ光の向きを、少なくとも前記ターゲットに照射する方向と前記基板に照射する方向との2方向に変えることが可能な光空間変調手段とを具備した酸化物薄膜作製装置。