特許

J-GLOBAL ID：200903021691830031

投影リソグラフィー装置

発明者： ヘルベルト ブシュベック ,  アルフレッド シャルプカ ,  ハンス ロエシュナー ,  ゲルハルト ステングル ,  ヘルベルト ヴォナクス
出願人/特許権者： イー.エム.エス.イオネン-ミクロファブリカショーンズ ズィステーメ ゲーエムベーハー
代理人 (1件)： 吉田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-240377
公開番号（公開出願番号）：特開平10-149794
出願日： 1997年08月20日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：

【要約】【課題】マスク構造を基板に転写する際の転写誤差を有効に低下しうる投影リソグラフィー装置を提供する。【解決手段】集束レンズのレンズ誤差と発散レンズのレンズ誤差とが適正に相殺し、かつ、所定の転写倍率変化が実現されるようにすべく、電極装置(6)は、静電発散レンズと、これに協働する少なくとも1つの静電集束レンズを含んでいる。

請求項（抜粋）：

粒子源(2)と、実質的に点状の見かけの粒子源から発する発散粒子ビームをつくり出す抽出システム(3)と、発散粒子ビームを集束してマスク(7)及び基板(8)を照射するための少なくともほぼ平行な粒子ビームに変換する手段(6)とを備えた、マスクの構造をマスクの直後に配置された基板に転写するための荷電粒子による投影リソグラフィー装置において、粒子ビームを集束する前記手段が静電発散レンズ(6g、6h)と連携した少なくとも1つの静電集束レンズ(6a〜6f)を包む電極装置(6a、6b、6c、6d、6e、6f、6g、6h)を有することを特徴とする装置。

IPC (4件)：

H01J 37/305 ,  G03F 7/20 506 ,  H01J 37/12 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01J 37/305 B ,  G03F 7/20 506 ,  H01J 37/12 ,  H01L 21/30 541 B

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特表昭63-502707
  
• 特表昭63-502707
  

審査官引用 (1件)

• 特表昭63-502707