特許

J-GLOBAL ID：200903021692571838

ポジ型レジスト組成物

発明者： 上谷 保則 ,  桑名 耕治 ,  中西 弘俊 ,  塙 良太郎
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-219804
公開番号（公開出願番号）：特開平5-034917
出願日： 1991年08月30日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：

【要約】【目的】 感度及び焦点深度に優れたレジスト組成物を提供する。【構成】 ノボラック樹脂、4価以上のフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルおよび3価以下のフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有するポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

ノボラック樹脂、4価以上のフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルおよび3価以下のフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有するポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027