特許
J-GLOBAL ID：200903021708119981

溶液製膜方法

発明者：
新井 利直

新井 利直 について

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山崎 英数

山崎 英数 について

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辻本 忠宏

辻本 忠宏 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 田中 政浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-274185
公開番号（公開出願番号）：特開2004-106430
出願日： 2002年09月20日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：
【課題】セルローストリアセテートフィルム等を溶液製膜方法において製造する際、特に、窒素などで工程内の酸素濃度を安全域まで低下させるまでの間に、フィルムから蒸発した溶剤が着火するのを防止できるようにする。【解決手段】少なくとも1種類以上のポリマーを含む溶液からなるドープを流延ダイから流延支持体に流延した後、剥離、乾燥させてフィルムを製造する溶液製膜方法において、前記フィルムを流延支持体から剥ぎ取る際、フィルムの表面抵抗値が1010MΩ以下にする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
少なくとも1種類以上のポリマーを含む溶液からなるドープを流延ダイから流延支持体に流延した後、剥離、乾燥させてフィルムを製造する方法であって、前記フィルムを流延支持体から剥ぎ取る際、フィルムの表面抵抗値が1010MΩ以下であることを特徴とする溶液製膜方法。
IPC (3件)：
B29C41/28 ,  B29C41/50 ,  G02B5/30
FI (3件)：
B29C41/28 ,  B29C41/50 ,  G02B5/30
Fターム (23件)：
2H049BA02 ,  2H049BB18 ,  2H049BB33 ,  2H049BC01 ,  2H049BC22 ,  4F205AA01 ,  4F205AC05 ,  4F205AG01 ,  4F205AH73 ,  4F205AM25 ,  4F205AP05 ,  4F205AR20 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GC07 ,  4F205GE03 ,  4F205GE11 ,  4F205GE22 ,  4F205GF03 ,  4F205GF24 ,  4F205GN22 ,  4F205GN24 ,  4F205GN29
引用特許：
審査官引用 (3件)

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