特許
J-GLOBAL ID：200903021714343966
微小光学素子、その製造方法及びフォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
大垣 孝
, 岡田 宏之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-270119
公開番号（公開出願番号）：特開2008-089926
出願日： 2006年09月29日
公開日（公表日）： 2008年04月17日
要約：
【課題】製造工程においてレンズの損傷を防止する。【解決手段】マイクロレンズの製造方法は、第1レジストパターンをエッチングマスクとして用いて、基板20に第1レジストパターンの形状を転写するパターニングを行って、レンズ形成領域20Xに、凹部13に納められる最大高さが凹部の側壁の高さよりも低くされているレンズ本体16を形成する工程と、第2レジストパターンをマスクとして用いて、レンズ形成領域外である基板の一部領域を除去して外形を形成する工程とを含む。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
凹部を有する枠体部と、
高さの最高点が前記枠体部の高さより低い位置にあって、前記凹部内に設けられている、前記枠体部と一体構成のレンズ本体と
を有することを特徴とするマイクロレンズ。
IPC (3件)：
G02B 3/00
, B81B 1/00
, B81C 1/00
G02B3/00 A
, B81B1/00
, B81C1/00
