特許

J-GLOBAL ID：200903021728256012

水素および一酸化炭素富化ガスの製造方法および反応器

発明者： イヴァル・イヴァルセン・プリムダール
出願人/特許権者： ハルドール・トプサー・アクチエゼルスカベット
代理人 (1件)： 江崎 光史 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-199651
公開番号（公開出願番号）：特開平6-279002
出願日： 1993年08月11日
公開日（公表日）： 1994年10月04日
要約：

【要約】【構成】 上部および下部および反応器に内側表面に密着した耐火性ライニングを有する反応器内で炭化水素供給源を部分酸化することからなる水素および/または一酸化炭素富化ガスの製造方法であって、供給源および酸素含有雰囲気を反応器の上部に導入し、供給源を酸素で反応器の下部で部分酸化し、そして耐火性ライニング上で部分酸化されたガス中で進行する吸熱リフォーミング反応によるライニングを冷却するように部分酸化された供給源を少なくとも反応器の上部中の耐火性ライニング上に配置されたリフォーミング触媒と接触させる。【効果】 耐火性ライニングからの分解生成物の蒸発が反応器の上部で生じない。従って、反応器の下部の冷却器部分または装置の下流における障害を引起し得るかゝる生成物の沈澱が適度に回避される。

請求項（抜粋）：

上部および下部および反応器に内側表面に密着した耐火性ライニングを有する反応器内で炭化水素供給源を部分酸化することからなる水素および/または一酸化炭素富化ガスの製造方法であって、該供給源および酸素含有雰囲気を反応器の上部に導入する段階、該供給源を酸素で反応器の下部で部分的に酸化する段階、および該耐火性ライニング上で部分的に酸化されたガス中で進行する吸熱リフォーミング反応によるライニングを冷却するように部分的に酸化された供給源を少なくとも反応器の上部中の耐火性ライニング上に配置されたリフォーミング触媒と接触させる段階からなる、上記方法。