特許

J-GLOBAL ID：200903021738773864

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者： 高田 佳幸 ,  李 榮濬 ,  落合 鋼志郎
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-367050
公開番号（公開出願番号）：特開2004-359929
出願日： 2003年10月28日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：

【課題】ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特に改善された感度を与える化学増幅型のポジ型レジスト組成物及び該組成物に好適に用いられるアクリル樹脂を提供する。【解決手段】〔1〕下式(I)で示される重合単位を有するアクリル樹脂。(式中、R1は、炭素数1〜4の分岐していてもよいアルキレン基を表し、R2は、炭素数1〜4の分岐していてもよいアルキル基を表し、R3は水素原子又はメチル基を表す。)〔2〕前記式(I)で示される重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有するレジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下式(I)で示される重合単位を有するアクリル樹脂。

IPC (3件)：

C08F20/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

FI (3件)：

C08F20/28 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601

Fターム (24件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17 ,  4J100AK31R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AR00R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC52Q ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-050264   出願人：富士通株式会社

審査官引用 (2件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-044665   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-138809   出願人：富士写真フイルム株式会社