特許

J-GLOBAL ID：200903021742006991

研磨剤用添加剤と研磨剤

発明者： 山下 毅 ,  相澤 龍司 ,  倉本 成史 ,  松見 泰夫 ,  勝田 修之
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒 ,  住友化学株式会社
代理人 (1件)： 松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-166360
公開番号（公開出願番号）：特開2005-347579
出願日： 2004年06月03日
公開日（公表日）： 2005年12月15日
要約：

【課題】 速い研磨速度と高いディッシング抑制効果を両立させることができる、CMP用研磨剤に好適な添加剤と、それを用いた研磨剤を提供する。 【解決手段】 本発明にかかる研磨剤用添加剤は、イミノ二酢酸(塩)基を有し、炭素原子数と窒素原子数が炭素原子数/窒素原子数>7(ただし、この計算は、イミノ二酢酸塩基を有する場合におけるその塩部分の炭素原子数と窒素原子数は除いてなされること)の関係を満たす水溶性化合物、または、イミノ二酢酸(塩)基を含有する水溶性高分子化合物を含む。本発明にかかる研磨剤は、本発明の研磨剤用添加剤を含む。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

イミノ二酢酸(塩)基を有し、炭素原子数と窒素原子数とが炭素原子数/窒素原子数>7(ただし、この計算は、イミノ二酢酸塩基を有する場合におけるその塩部分の炭素原子数と窒素原子数は除いてなされること)の関係を満たす水溶性化合物を含む、研磨剤用添加剤。

IPC (3件)：

H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

FI (6件)：

H01L21/304 622C ,  H01L21/304 622D ,  H01L21/304 622X ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z

Fターム (6件)：

3C058AA07 ,  3C058CA01 ,  3C058CB02 ,  3C058CB03 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 金属研磨材、金属研磨組成物及び研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-198633   出願人：住友化学工業株式会社