特許

J-GLOBAL ID：200903021771483820

発光性ケイ素系高分子化合物およびその製造方法

発明者： 木全 良典 ,  栗山 晃
出願人/特許権者： 東亞合成株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-335651
公開番号（公開出願番号）：特開平9-157358
出願日： 1995年12月01日
公開日（公表日）： 1997年06月17日
要約：

【要約】【課題】発光材料および半導体材料などに有用であり、可視領域で発光を示す新規なケイ素系高分子化合物およびその製造方法を提供する。【解決手段】 式〔1〕で表されるケイ素系高分子化合物。【化1】(式中、Rは炭素数4〜8の直鎖アルキル基を示し、mは50〜500の正数およびnは5〜50の正数を示す)

請求項（抜粋）：

メチルフェニルシラン単量体単位とチオフェン単量体単位を構成単位とする式〔1〕で表されるケイ素系高分子化合物。【化1】(Rは炭素数4〜8の直鎖アルキル基を示し、mは50〜500の正数およびnは5〜50の正数を示す)

IPC (2件)：

C08G 61/12 NLJ ,  C08G 77/60 NUM

FI (2件)：

C08G 61/12 NLJ ,  C08G 77/60 NUM