特許

J-GLOBAL ID：200903021775295026

電子放出素子並びに画像形成装置の製造方法

発明者： 三道 和宏 ,  金子 哲也 ,  柳沢 芳浩 ,  長谷川 光利 ,  中山 優 ,  長田 芳幸
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 豊田 善雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-230757
公開番号（公開出願番号）：特開平7-065708
出願日： 1993年08月25日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：

【要約】【目的】 微粒子からなる膜を有する表面伝導型電子放出素子の製造工程数を削減し得る製造方法を提供する。【構成】 絶縁性基板1上に形成された素子電極5,6間に微粒子からなる所望のパターンの薄膜4を形成する際に、感光性樹脂と該微粒子を含むスラリー液7を塗布(b)した後、露光,現像して薄膜領域を形成し(c)、これを焼成して感光性樹脂を焼失させ微粒子からなる薄膜4を形成する(d)電子放出素子の製造方法。【効果】 レジスト膜と微粒子膜の形成を同時に行うことができる。

請求項（抜粋）：

一対の電極間に微粒子からなる薄膜を有する電子放出素子の製造方法において、感光性樹脂と微粒子を含むスラリー液を塗布した後、露光,現像して薄膜領域を形成し、さらに焼成して前記微粒子からなる薄膜を形成することを特徴とする電子放出素子の製造方法。