特許
J-GLOBAL ID:200903021777182490

静電吸着体と静電吸着装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鵜沼 辰之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-037559
公開番号(公開出願番号):特開平10-233434
出願日: 1997年02月21日
公開日(公表日): 1998年09月02日
要約:
【要約】【課題】 静電吸着装置にて試料吸着を行う際の、試料裏面への異物付着量を低減する。【解決手段】 静電吸着体100の吸着部3の表面(吸着面)を加工して被吸着物1との接触部4及び非接触部5となる凹凸を形成し、被吸着物1と静電吸着体の吸着面の接触面積を吸着部面積の10%未満とすると同時に、被吸着物吸着時の被吸着物1と前記非接触部5の間隔を0.35〜9.0μmとした。
請求項(抜粋):
電極板に誘電体を積層してなり、電極板と被吸着物間に電位差を生じさせることによって前記誘電体の吸着面に被吸着物を吸着させる静電吸着体において、誘電体の吸着面表面に、被吸着物吸着時に被吸着物との接触部となる凸部および非接触部となる凹部を形成し、前記接触部の被吸着物との接触面積を吸着面面積の10%未満としたことを特徴とする静電吸着体。
IPC (2件):
H01L 21/68 ,  B25J 15/06
FI (2件):
H01L 21/68 R ,  B25J 15/06 S
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • セラミツク製静電チヤツク
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-157207   出願人:京セラ株式会社
  • 特開平4-304941
  • 高温ポリイミド静電チャック
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-016164   出願人:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
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