特許
J-GLOBAL ID：200903021783975370
ヒーター付き高周波加熱装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-181970
公開番号（公開出願番号）：特開平6-026650
出願日： 1992年07月09日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、ヒーター付き高周波加熱装置に関するもので、被加熱物の焼きムラ改善に関するものである。【構成】 オーブン中心に対し、循環ファン29への吸気孔26と吹出孔27を相対して位置させ、被加熱物32の下面も熱風がよく通過する構成とした。この構成により食品の全周がほぼ均一に加熱され焼きムラをなくすことができる。
請求項（抜粋）：
被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室に収納された被加熱物を加熱するために前記加熱室に結合された高周波加熱手段と、ヒーターと、ヒーターで加熱された空気を撹拌する循環ファンと、循環ファンを格納する循環ファンケースからなり、循環ファンケースと加熱室とに熱風を循環させる為の吸気孔及び吹出孔を有し、加熱室の1側面のほぼ中心に対して前記吸気孔と吹出孔を相対して位置させたヒーター付き高周波加熱装置。
IPC (2件)：
F24C 1/00 360
, H05B 11/00
