特許
J-GLOBAL ID：200903021796328064
複数ビーム走査光学装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-217868
公開番号（公開出願番号）：特開平5-034613
出願日： 1991年08月03日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：
【要約】【目的】 複数ビームで被走査面を同時に走査する際、各ビームが被走査面上に良好にピントを結び高密度、高精度な走査が可能な複数ビーム走査光学装置を得ること。【構成】 複数の光ビームを第1光学系で平行光束として絞りを介して光偏向器で偏向させた後、第2光学系により被走査面上に導光し、該複数の光ビームで同時に光走査する際、該複数の発光部は主走査方向と斜め方向に配列しており、該複数の発光部の数をn、ピッチをd、該光偏向器の偏向面の基準位置から該絞りまでの距離をL、該第1光学系の焦点距離をfとしたとき【数1】なる条件を満足すること。
請求項（抜粋）：
独立に光変調が可能な複数の発光部を有する光源手段から放射した複数の光ビームを第1光学系で平行光束として絞りを介して光偏向器に導光し、該光偏向器で偏向させた光ビームを第2光学系により被走査面上に導光し、該複数の光ビームで該被走査面上を同時に光走査する際、該複数の発光部は該被走査面上の光ビームの主走査方向と斜め方向に配列しており、該複数の発光部の数をn、ピッチをd、該光偏向器の偏向面の基準位置から該絞りまでの距離をL、該第1光学系の焦点距離をfとしたとき【数1】なる条件を満足することを特徴とする複数ビーム走査光学装置。
IPC (4件)：
G02B 26/10
, B41J 2/44
, G03G 15/04 116
, H04N 1/04 104
