特許
J-GLOBAL ID:200903021815975289
表面の抗菌処理のためのフェニルエチルアミン誘導体の使用
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
津国 肇 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-561159
公開番号(公開出願番号):特表2003-524649
出願日: 2001年02月13日
公開日(公表日): 2003年08月19日
要約:
【要約】本発明は、式(1):【化24】(式中、R1、R2及びR3は、互いに独立して、水素;C1-C20アルキル;C3-C12シクロアルキル;C2-C20アルケニル;C4-C12シクロアルケニル;C3-C20アルキニル;C4-C12シクロアルキニル;あるいは、非置換あるいはC1-C5アルキル-、C3-C12シクロアルキル-、C1-C5アルコキシ-、C3-C12シクロアルコキシ-、ハロ-、オキソ-、カルボキシ-、カルボキシ-C1-C7アルキルエステル-、カルボキシ-C3-C12シクロアルキルエステル-、シアノ-、トリフルオロメチル-、ペンタフルオロエチル-、アミノ-、N,N-モノ-若しくはジ-C1-C20アルキルアミノ-又はニトロ-置換された、フェニル、フェニル-C1-C5アルキル、ビフェニル、ビフェニル-C1-C5アルキル、ナフチル-C1-C5アルキル、フェニルカルボニル-C1-C5アルキル、ナフチルカルボニル-C1-C5アルキル、ピロリルアルキル、フラニルアルキル、チオフェニルアルキル、ピラゾリルアルキル、イミダゾリルアルキル、オキサゾリルアルキル、チアゾリルアルキル、イソキサゾリルアルキル、イソチアゾリルアルキル、1,2,3-トリアゾリルアルキル、1,2,4-トリアゾリルアルキル、1,2,3-オキサジアゾリルアルキル、1,3,4-オキサジアゾリルアルキル、1,2,3-チアジアゾリルアルキル、1,3,4-チアジアゾリルアルキル、インドリルアルキル、ピリジルアルキル、ピリダジニルアルキル、ピリミジニルアルキル、ピリダジニルアルキル、キノリニルアルキル、イソキノリニルアルキル、ピロリル、フラニル、チオフェニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、イソキサゾリル、イソチアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、1,2,4-トリアゾリル、1,2,3-オキサジアゾリル、1,3,4-オキサジアゾリル、1,2,3-チアジアゾリル、1,3,4-チアジアゾリル、インドリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、キノリニル又はイソキノリニルであり;R4、R5、R6及びR7は、互いに独立して、水素;C1-C20アルキル;C3-C12シクロアルキル;C2-C20アルケニル;C4-C12シクロアルケニル;C3-C20アルキニル;又はC4-C12シクロアルキニルであり;そして、m及びnは、互いに独立して、0又は1である)で示される化合物の表面抗菌処理のための使用に関する。該化合物は、病原性グラム陽性及びグラム陰性菌に対して、また酵母菌及びかびに対しても、特に著しい作用を示す。したがって、該化合物は、表面の抗菌処理、特に、保存及び消毒、脱臭に適切である。
請求項(抜粋):
式(1):【化1】(式中 R1、R2及びR3は、互いに独立して、水素;C1-C20アルキル;C3-C12シクロアルキル;C2-C20アルケニル;C4-C12シクロアルケニル;C3-C20アルキニル;C4-C12シクロアルキニル;あるいは、非置換あるいはC1-C5アルキル-、C3-C12シクロアルキル-、C1-C5アルコキシ-、C3-C12シクロアルコキシ-、ハロ-、オキソ-、カルボキシ-、カルボキシ-C1-C7アルキルエステル-、カルボキシ-C3-C12シクロアルキルエステル-、シアノ-、トリフルオロメチル-、ペンタフルオロエチル-、アミノ-、N,N-モノ-若しくはジ-C1-C20アルキルアミノ-又はニトロ-置換された、フェニル、フェニル-C1-C5アルキル、ビフェニル、ビフェニル-C1-C5アルキル、ナフチル-C1-C5アルキル、フェニルカルボニル-C1-C5アルキル、ナフチルカルボニル-C1-C5アルキル、ピロリルアルキル、フラニルアルキル、チオフェニルアルキル、ピラゾリルアルキル、イミダゾリルアルキル、オキサゾリルアルキル、チアゾリルアルキル、イソキサゾリルアルキル、イソチアゾリルアルキル、1,2,3-トリアゾリルアルキル、1,2,4-トリアゾリルアルキル、1,2,3-オキサジアゾリルアルキル、1,3,4-オキサジアゾリルアルキル、1,2,3-チアジアゾリルアルキル、1,3,4-チアジアゾリルアルキル、インドリルアルキル、ピリジルアルキル、ピリダジニルアルキル、ピリミジニルアルキル、ピリダジニルアルキル、キノリニルアルキル、イソキノリニルアルキル、ピロリル、フラニル、チオフェニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、イソキサゾリル、イソチアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、1,2,4-トリアゾリル、1,2,3-オキサジアゾリル、1,3,4-オキサジアゾリル、1,2,3-チアジアゾリル、1,3,4-チアジアゾリル、インドリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、キノリニル又はイソキノリニルであり; R4、R5、R6及びR7は、互いに独立して、水素;C1-C20アルキル;C3-C12シクロアルキル;C2-C20アルケニル;C4-C12シクロアルケニル;C3-C20アルキニル;又はC4-C12シクロアルキニルであり;そして m及びnは、互いに独立して、0又は1である)で示される化合物の表面抗菌処理のための使用。
IPC (23件):
C07C217/60
, A01N 33/10
, A01N 35/04
, A01N 37/34 103
, A01N 37/36
, A61K 7/00
, A61K 7/075
, A61K 7/16
, A61K 7/32
, A61K 31/138
, A61K 31/225
, A61K 31/24
, A61K 31/277
, A61P 1/02
, A61P 17/00 101
, C07C213/06
, C07C253/30
, C07C255/54
, C09D 11/00
, C09D201/00
, C11D 3/48
, D06M 13/328
, D21H 21/36
FI (24件):
C07C217/60
, A01N 33/10
, A01N 35/04
, A01N 37/34 103
, A01N 37/36
, A61K 7/00 C
, A61K 7/00 W
, A61K 7/075
, A61K 7/16
, A61K 7/32
, A61K 31/138
, A61K 31/225
, A61K 31/24
, A61K 31/277
, A61P 1/02
, A61P 17/00 101
, C07C213/06
, C07C253/30
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, C09D 11/00
, C09D201/00
, C11D 3/48
, D06M 13/328
, D21H 21/36
Fターム (133件):
4C083AB242
, 4C083AB332
, 4C083AC102
, 4C083AC122
, 4C083AC132
, 4C083AC242
, 4C083AC551
, 4C083AC552
, 4C083AC621
, 4C083AC622
, 4C083AC712
, 4C083AC782
, 4C083AC792
, 4C083AC811
, 4C083AC812
, 4C083AD052
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, 4H006AA01
, 4H006AA02
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, 4H006AC30
, 4H006AC41
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, 4H006BJ50
, 4H006BM10
, 4H006BM30
, 4H006BM71
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, 4H006BU40
, 4H011AA02
, 4J038EA011
, 4J038JB03
, 4J038KA02
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