特許
J-GLOBAL ID:200903021820659700

酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高島 一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-320192
公開番号(公開出願番号):特開平9-169075
出願日: 1992年01月13日
公開日(公表日): 1997年06月30日
要約:
【要約】【課題】 包装フィルムにおいて、耐レトルト性、耐屈曲性、ガスバリア性に優れた酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルムを提供することにある。【解決手段】 プラスチックフィルムの少なくとも片面に、電子ビーム蒸着法により酸化硅素系薄膜が形成されてなるガスバリアフィルムにおいて、該薄膜の比重が1.80〜2.20であることを特徴とする酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルムである。このような構成のフィルムは、ガスバリア性に優れ、また耐レトルト性、耐ゲルボ性(耐屈曲性)が極めて良好であり、包装材料またはガス遮断材料として特に有用である。
請求項(抜粋):
プラスチックフィルムの少なくとも片面に、電子ビーム蒸着法により酸化硅素系薄膜が形成されてなるガスバリアフィルムにおいて、該薄膜の比重が1.80〜2.20であることを特徴とする酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルム。
IPC (6件):
B32B 9/00 ,  B32B 7/02 ,  B32B 27/00 ,  C08J 7/06 CFD ,  C23C 14/10 ,  C23C 14/20
FI (6件):
B32B 9/00 A ,  B32B 7/02 ,  B32B 27/00 H ,  C08J 7/06 CFD Z ,  C23C 14/10 ,  C23C 14/20 A
引用特許:
審査官引用 (10件)
  • 特開平3-278946
  • 特公平7-098872
  • 特開平3-099842
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