特許

J-GLOBAL ID：200903021828300787

フォトマスクの洗浄方法およびそれに用いられる洗浄液

発明者： 田中 眞一郎 ,  村中 誠志 ,  菅野 至 ,  山本 博正 ,  大串 建
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社 ,  岸本産業株式会社 ,  菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社 ,  フアインポリマーズ株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-328303
公開番号（公開出願番号）：特開2002-131890
出願日： 2000年10月27日
公開日（公表日）： 2002年05月09日
要約：

【要約】【課題】 フォトマスクに付着した、ペリクルをフォトマスクに貼りつけるためのシリコン系の粘着材を除去するための洗浄方法と洗浄液とを提供する。【解決手段】 洗浄液として、主成分となる縮合リン酸アンモニウム、補助剤となる尿素またはその変態成分および酸を含む水溶性の洗浄液6を用いる。その洗浄液6を洗浄槽5に入れ、粘着材残留痕4の残ったフォトマスク1を洗浄液6に浸漬して、粘着材残留痕4を除去する。

請求項（抜粋）：

フォトマスクに付着した、ペリクルを貼りつけるための粘着材を除去するためのフォトマスクの洗浄方法であって、主成分となる縮合リン酸アンモニウムと、補助剤となる尿素またはその変態成分と、酸とを含む洗浄液を用いて前記粘着材を除去する粘着材除去工程を備えた、フォトマスクの洗浄方法。

IPC (6件)：

G03F 1/08 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  B08B 3/12 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 1/08 X ,  B08B 3/02 A ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 3/10 Z ,  B08B 3/12 Z ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (11件)：

2H095BB20 ,  2H095BB30 ,  3B201AA02 ,  3B201AB01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB21 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB94 ,  3B201BB96 ,  3B201CB01