特許
J-GLOBAL ID:200903021833259230

高純度酸化モリブデン薄膜およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-213066
公開番号(公開出願番号):特開2009-046343
出願日: 2007年08月17日
公開日(公表日): 2009年03月05日
要約:
【課題】モリブデン(Mo)および酸素(O)以外に不純物を実質的に含まない高純度酸化モリブデン薄膜およびその製造方法を提供する。【解決手段】本発明の高純度酸化モリブデン薄膜は、バンドギャップが2.5eV以上であり、かつ、モリブデン(Mo)との原子比が3:1で、実質的に不純物を含まないものである。本発明の高純度酸化モリブデン薄膜の製造方法とは、モリブデンフッ化物錯体を含む反応溶液に基材を浸漬させ、当該基材表面に酸化モリブデンを析出させる方法である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
バンドギャップが2.5eV以上で、かつ、モリブデン(Mo)と酸素(O)との原子比が3:1であり、実質的に不純物を含まないことを特徴とする高純度酸化モリブデン薄膜。
IPC (1件):
C01G 39/02
FI (1件):
C01G39/02
Fターム (6件):
4G048AA02 ,  4G048AB02 ,  4G048AC08 ,  4G048AD02 ,  4G048AD06 ,  4G048AE06
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (5件)
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引用文献:
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