特許
J-GLOBAL ID：200903021835051431
磁性粒子の磁化分布の解析方法および解析装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 康徳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-245136
公開番号（公開出願番号）：特開2002-055149
出願日： 2000年08月11日
公開日（公表日）： 2002年02月20日
要約：
【要約】【課題】 2次元断面内にある各粒子の磁化分布の解析において、奥行き方向にある粒子の影響を考慮することにより精度よく解析する解析装置を提供する。【解決手段】 各粒子の中心位置における印加磁界を計算し(S10)、磁性粒子の中心位置の仮定磁界データ(BIcount)に(B0)を設定し(S11)、各粒子の磁化と磁気モーメントの計算と(S13)、磁界を求めた粒子以外の粒子の粒子群がつくる磁界の計算と(S14)、磁界を求めたい着目粒子の粒子群がつくる磁界を計算する(S15)。次に、印加磁界と他粒子がつくる磁界を加え、他粒子を考慮した磁界データを求め(S16)、2次元断面内にある全粒子nに対して計算し(S17)、磁性粒子の中心位置の仮定磁界分布と他粒子を考慮した磁界分布が一致した場合に計算を終了する。
請求項（抜粋）：
所定の2次元断面内に複数の磁性粒子が存在し、前記2次元断面にあるそれぞれの前記磁性粒子に対して、前記磁性粒子と同じ磁化、同じ大きさを有し、前記2次元断面の奥行き方向に規則的に並んでいる磁性粒子を仮定して、前記磁性粒子の磁化分布を解析する磁性粒子の磁化分布の解析方法であって、仮定した前記奥行き方向に規則的に並んでいる所定個数の磁性粒子が作る磁界を含めて磁化と磁界について繰り返し解析することにより、前記磁性粒子の磁化分布を求める解析工程を有することを特徴とする磁性粒子の磁化分布の解析方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01R 33/12 Z
, G01N 27/72
2G017AA08
, 2G017BA15
, 2G017CA01
, 2G017CB04
, 2G053AB01
, 2G053BA05
, 2G053BB11
, 2G053CB21
, 2G053CB29
